南大光电宣布好消息

自从华为承受美国的打压以来，国内对于芯片技术层面上的突破就显得尤其重视，毕竟谁也不想被美国总拿这个“卡脖子”。但是碍于光刻机研发进展的缓慢，国内的芯片技术一直没能取得大的成绩。

有人可能会问光刻机和芯片有什么关系，光刻机的进展缓慢为什么能影响到芯片技术？其实简单点来说，光刻机就是芯片生产过程中必不可少的机器，也就是说，没有高端光刻机就无法生产出顶级的芯片。

国内对于光刻机的研发已经持续很长时间了，但是在高端光刻机上还是没能突破，并且就算是想进口，别人也不乐意卖给我们。这个时候，我们唯一的办法就只有努力研究了，争取早日研究出国产高端光刻机。

其实在芯片制造过程中还有一种非常重要的技术，那就是光刻胶技术，如果没有光刻胶，就算你有高端光刻机也是白费，可以说光刻胶技术也是一种非常重要的技术。

近日，国内的南大光电就传出了一个好消息，正与光刻胶技术相关。南大光电传出消息：目前国产ArF光刻胶取得了重大的突破，可以用于22nm工艺，即将进入量产及销售阶段。

这也就意味着国内在光刻机顶尖技术中取得了巨大的突破，并且能在光刻胶市场分一杯羹。要知道在之前的光刻胶市场，国内基本上是排不上号的。此次南大光电完成技术突破不仅能帮助我们占据更大的市场，还能给予国内光刻机研究更多的信心。

日本、美国始料未及

在之前的光刻胶市场，日本和美国两者加起来差不多占据了90%的市场，也就是说二者对光刻胶有着绝对垄断的技术。但是此次南大光电完成突破，让日本、美国始料未及，也证明了即使不依赖国外的技术，国内也能发展得很好。

据公开资料显示，之前在全球光刻胶市场排行前五的公司，有四家来自于日本，第五名来自美国。可见日本在光刻胶领域基本上是全球领先，就连美国也只是在他身后喝汤。

但是日本也造不出高端光刻机，因为仅仅掌握顶尖的光刻胶技术远远不能满足于高端光刻机的制造。这是因为高端光刻机是多种顶尖技术的复合，不是只需要其中一种就能行的，你需要同时掌握多种核心技术才有可能造得出来。

显然，高端光刻机的制造要比掌握顶尖的光刻胶技术难得多。这也给我们提了个醒，我们不能因为在光刻胶领域取得了突破就沾沾自喜，我们要清楚，我们离造出高端光刻机还有很远的距离。

但是我们也不能因此气馁，因为高端光刻机是我们必须攻破的领域，不然的话，以后就会因为缺失这方面的技术而发展处处受限。为了现在的情况以及长远的打算，高端光刻机的研究是很有必要的，国内应该大力支持！

总结

南大光电传出在顶尖光刻胶上有所突破的消息值得我们开心，这无形之中给国内的光刻机研究增添了许多信心，也给我们国内的科研工作者带来了希望。如果光刻机技术都能完成突破的话，那么光刻机研究一定也能成功突破！