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众所周知，全球能生产高端光刻机，也就是EUV光刻机的国家只有一个，就是欧洲小国-荷兰。这一点，即便是科技巨头云集的美国，也无能为力。美国是全球半导体设备最大的生产国，拥有像应用材料公司，泛林，科磊半导体等众多知名的设备提供商，半导体产业基础雄厚，覆盖了绝大多数的芯片制造设备，唯独在光刻机上，美国企业却是一片空白，眼看着ASML垄断了全球市场。

制造光刻机的难度超乎一般人的想象。日本以高端制造闻名，其中就包括精度极高的精密机床，但是在高端光刻机的研发上，日本企业选择了放弃，至今日本两大光刻机制造商尼康和佳能还停留在第四代ArF光刻机阶段。光刻机虽难，但是中国企业却不能放弃。根据媒体报道，上海微电子的28nm光刻机预计将在明年下线。那么美国，日本都造不出的高端光刻机，中国能行吗？

重要的是我们要知道光刻机到底难在何处？总结起来，主要集中在三大环节：一是精度，晶圆电路的精度都是纳米级别，相当于一根头发丝的五千分之一，对工艺的要求极高；其二，高端光刻机需要顶级的光源系统，也就是极紫外光，目前掌握这一技术的国家极少；第三，核心双工件台，对温湿度，精度都有严格的要求。上面只是列举出关键的零部件和技术，其实生产过程也是一个复杂的程序，即便拥有所有的零部件，也不见得能组装出相同的机器。

光刻机对于企业来说，难度当然不小。但是对于以举国之力发展光刻机的中国来说，到底意味着什么？首先，中国有庞大的市场需求和资金供给。2019年的数据显示，中国是全球第二大半导体设备市场，销售额达到了129亿美元，仅次于台湾地区。长远来看，随着大批国内晶圆生产线的建成，早晚将会成为全球规模最大的半导体设备市场。在资金方面，ASML当初苦于研发资金不足，因此就邀请全球主要半导体巨头英特尔，台积电，三星电子入股，才解决了研发资金问题。而对于中国来说，特事特办，资金不会成为国产光刻机的绊脚石。

其次，举全国之力最大的优势在于，可以集中国内最好的资源，比如清华大学精密仪器系，中科院长春光机所等。中国科研单位在没有国外协助的情况下，能建立自己的国际空间站，能实现月球背面着陆，说明中国人的聪明才智绝不输于外国人。从关键零部件的研发来看，清华大学的双工件台项目，长春光机所的极紫外光技术等先后取得突破。而在光刻机生产方面，除了上海微电子，近期国内已经涌现出多家新投产的项目，国产光刻机已经呈现良好的发展势头。